Entwicklung Und Optimierung Von Prozeßkomponenten Zur Ionenunterstützten Abscheidung Bei Pvd-Verfahren

Name: Entwicklung Und Optimierung Von Prozeßkomponenten Zur Ionenunterstützten Abscheidung Bei Pvd-Verfahren
Brand: Springer
SKU: 9783540585114
Price: 5498.00 INR
Availability: InStock

by Walter Olbrich

Springer

₹5,498

Free delivery. Nothing extra to pay at checkout.

New copy. Each book is ordered new from our distributor, Atlantic Books, after you place your order.
Delivery in 3–7 days to any serviceable pincode in India, with tracking.
Cash on delivery. Pay when the parcel reaches you.
15-day returns. See what qualifies.

From the publisher

Die physikalische Abscheidung aus der Gasphase (Physical Vapor Deposition, PVD) ist ein junges Fertigungsverfahren der Obertliichentechnik. Mit PVD-Verfahren lassen sich diinne Schichten im Bereich einiger Nanometer bis zu einigen Mikrometem aufvielen Werkstiicken erzeugen. Durch die Beschichtung lassen sich gezielt die Eigenschaften der Werkstiickober- flache veriindem.

Description supplied by the publisher.